Tecnologias de Revestimentos e Películas Finas
Código
7522
Unidade Orgânica
Faculdade de Ciências e Tecnologia
Departamento
Departamento de Ciências dos Materiais
Créditos
6.0
Professor responsável
Hugo Manuel Brito Águas
Horas semanais
5
Total de horas
76
Língua de ensino
Português
Objectivos
Fornecer aos alunos os conhecimentos necessários para interpretarem, manusearem e projectarem um sistema de vácuo para deposição de películas finas.
Dar a conhecer as propriedades dos plasma.
Dar a conhecer as diversas tecnologias para deposição de revestimentos e películas finas, com particular incidencia nas tecnologias de evaporação térmica, PECVD e Sputtering.
Dar aos alunos a oportunidade de verem, manusearem e interpretarem as diferentes tecnologias a nível laboratorial.
Desenvolverem competencias em trabalho de grupo e realização de relatórios.
Pré-requisitos
Não há requisitos.
Conteúdo
A tecnologia de vácuo e a sua utilização no processamento de películas finas. Processos de deposição (adsorção, difusão superficial, nucleação, estrutura, interfaces, tensões e adesão). Tecnologias de processamento físico, químico e químico - físico: Caracterização, funcionalidade e aplicações dos processos: - Electroquímicos; - Decomposição química de vapores à pressão atmosférica (CVD), baixa pressão (LPCVD), filamento aquecido (HW-CVD), plasma (PECVD- RF ou VHF, ECR), microondas e feixes de energia (implantação iónica e lasers pulsados); - Deposição térmica resistiva e por canhão de electrões; -Pulverização catódica em corrente continua ou RF, assistida por magnetrão. Caracterização de películas finas (espessura, estrutura, composição, propriedades ópticas, eléctricas e mecânicas). Diferentes campos de aplicação (revestimentos e fabrico de dispositivos).
Bibliografia
- Diapositivos das aulas Teóricas.
- Guiões e protocolos de apoio às aulas práticas.
- Fundamentals of Vacuum Technology. Revised and compiled by Dr. Walter Umrath.
- D. Smith, Thin Film Deposition, McGraw Hill, 1995
Método de ensino
As aulas teórico-práticas são do tipo presencial e dadas com base na projecção de diapositivos em Power Point e complementadas com explicações e esquemas no quadro sempre que tal se revele necessário para uma melhor compreensão da matéria leccionada.
Os diapositivos são disponibilizados aos alunos através do CLIP antes das aulas, para que estes possam efectuar um melhor acompanhamento da matéria dada e complementar a informação fornecida com notas tiradas durante as aulas.
As aulas Práticas são dadas maioritáriamente em ambiente laboratorial, onde se realizarão os trabalhos práticos propostos. Dado o carácter prático da UC, estas aulas terão frequência obrigatória.
São disponibilizados aos alunos no CLIP, guiões de apoio aos trabalhos práticos que os alunos deverão estudar antes da respectiva aula. O docente colocará questões aos alunos sobre o trabalho a realizar no início da aula prática, por forma a poder avaliar da sua preparação do trabalho.
Espera-se que ambas as aulas sejam complementadas com formação do tipo tutorial pela leitura de textos de livros e artigos disponibilizados no CLIP, assim como pelo esclarecimento de dúvidas na forma presencial ou electrónica.
Método de avaliação
Avaliação: 2 relatórios (50%) + 2 testes (50%). Média dos testes/Exame> 8.5
Relatórios: 2 – em grupos de 4 ou 5 elementos.
- Tecnologia de Vácuo (peso 15 %) (max 10 páginas) – data de entrega: 04/04
- Fabrico de uma célula solar de silício amorfo (Peso 35 %) (max: 20 páginas) – data de entrega: 30/05
Nota Final: 50% Teste ou Exame + 50% Relatórios
Frequência: Presença obrigatória nas aulas práticas e nota prática> 9.5.